高端光刻机和一样都属于“国之重器”，不仅是一个国家实力的象征，更是世界产生竞争的焦点。

  全球仅有两个国家掌握比更高级的光刻机技术，然而光刻机的制造工艺早已将所包含的一切技术远远甩在了身后。

  高端光刻机的制造工艺难度和体量规模完全不下于一个二维空间上的小型城堡，在这样的领域全球技术水平最高的国家只有荷兰，甚至中国也有了自己的成果，为什么高端光刻机会如此难造?

  制作集成电路硅晶片的半导体制造设备叫做光刻机，它的原理是将微微小的电路图案放大数百倍投射到一块大硅晶片上，等到光线照到硅晶片上的时候会形成一个个小孔，这就是电路。

  光刻机就是将电路图案投射到硅晶片上，将图案根植在晶片里，不同的电路图案能轻松实现不同的功能，而硅晶片则是现代电子科技类产品中电子元器件加工最重要的一款材料。

  而高端光刻机就是在此基础上制造出来的比普通光刻机更先进的一款产品，随着科学技术发展良好，新一代的产品能够刻画纳米级别电子元器件，人眼不可见的小电路就被高端光刻机能够轻松完成。

  在全球范围内比较著名的光刻机品牌中，荷兰ASML就凭借着在研发上巨额的生产利润笼罩着国际市场，先进程度处于全球领先地位。

  日本十年前就已经落后了，2021年日本政府批准对日本国内进行一系列光刻机研发技术工作，这一系列工作最终落入了日本本土著名生产光刻机企业Nikon和Canon公司两家手中。

  其中在量产型光刻机方面做技术攻关的主要是Nikon公司，而Canon公司则接着来进行研发高端光刻机类产品，虽然现在两家公司的技术仍旧比不上ASML，但也已经取得了巨大进步，并有可能将他们带入世界前列。

  有了高端光刻机就能更加进一步将芯片形状缩小化，在芯片形状缩小化之后，集成度就得到了大幅度提升，如今很多智能设备上使用规格较低的处理器其集成度都和工业用高水平处理器逐渐媲美。

  比如说智能手机和电脑使用的大多数处理器都是6、7代左右水平，其性能已经足够优秀，但是其实这些处理器之间内部集成度是相差很大的。

  6代处理器使用的是ASML或者其它同级别厂商制造出来的中低端光刻机，能够在硅晶片上实现20纳米样式电子元件形状，而7代处理器则需要用ASML制造的EUV光刻机。

  在这一领域只有两个国家拥有着设计图纸，不仅意味着这两个国家具有保密技术能力，而且意味着这两个国家拥有着合作生产和销售光刻机的能力。

  对于大部分科研领域来说，技术是一切研究者最重要缺少的元素，但是为科技成果提供了最重要原料的祖国却长期处在胶带阶段，为什么呢?

  研究、发明和制造一个事物是三个阶段，其中研究和发明可以被称为一个阶段，因此制作物体所需经历的阶段就只剩下两个:研发和制造。

  对于高端光刻机来说，它能够被设计出来并被需要是因为以下几个原因:第一，社会持续健康发展要求科技慢慢的提升，美好畅想需要逐步实现，而芯片设计是现代社会必不可少的一部分。

  第二，科学技术进步需要大量新型产品与之配套，新产品强大能力让社会资源再分配变得更合理，为工业发展带来了机会。

  第三，物质生产力提升给人类社会带来了一系列新兴经济，在国外很多经济情况极为火爆的大企业都属于半导体产业链下游企业。

  因此全世界能否有更多ASML一样优秀企业存在，在某些特定的程度上决定了人类对于未来能否抓得住。

  制造高端光刻机所需突破的难关可大致分为三个方面，其一是物理机制技术难度。

  众所周知，欧盟国家划定了EUV作为国际标准，在EUV标准之下的任何一款高端光刻机都能轻松的获得合法认证，这就大幅度的降低了各国厂商间争买特许经营权竞争。

  所以各国也纷纷朝着EUV目标前进，但是尽管进步很快，但仍旧很难，因为生产需要多种物质对其原材料进行精密加工，一瓶重达千克以上的小药水就要近十亿日元，这笔钱能买日本100万人的居住房产!

  这还不算，由于材料过于稀有且极为易混，不慎混入雾气就会导致成品直接废料，所以只能生产极少量试剂，而由于每种试剂都过于昂贵，各国厂商几乎没办法囤积这些原料以减少相关成本，他们只能提前用这些基本没盈利空间的钱试制出更高级别样式。

  生产高端光刻机最重要的一步就是装配，各种机械设备需要在无尘舱中组装，一粒灰尘都可能会导致测试失败，因此洁净室需要持续保持万级洁净，而无尘舱装修工艺要求不次于核子电力站。

  此外，在组装过程中的万级洁净不能出现半点误差，因此全人尽自觉，全员服务工人是实质性原则。

  作为现代社会最急需的科技，如果不解决世界面临的问题，那么落后的国力将严重限制人的追求，改善世界与改进自我工作引人类创造能力都需要政治和经济具备足够重要性才能实现。

  因此，坚持自己的主权，并激励国民对于改良全人类发展的积极性，是推动科学发展的重要力量。

  然而，我们的祖国现在这个样子，中国也实现了巨大的进步，在EUV之上还在继续前进，新材料以及新工艺不断被开发。

  中国目前是全球经济第二大体量的大国，其创造及享受经济成果不仅交好经济税，更让中国人民拥有了越来越丰富的人生追求，他们所追求的美好生活都需要更多满足生活需求和享受生活乐趣工具，这就决定半导体行业发展成中国非常急迫要解决的问题。

  因为我国无论是在理论研究能力还是实践成果方面都离西方国家有着非常大差距，并且这些差距不小，尤其是在实际工程构建水平领域，中国在国际半导体科学中连个位数名次都没有，他们要更多科技工作者奋斗出成绩来。

  尽管我国半导体科研工作者也有着非常大的生产潜力，但是由于科技集成化极高，中国研究工作者甚至中国向海外技术人员提出要求时，还有很多国家对中国这一个国家持有有色眼镜，在自身科技优先原则面前，他们更看重自我能力。

  因此我国在设计试剂、研发新机器等领域都遭遇超级困难甚至超能力限制，在以上条件限制下中国发展本国半导体产业链很难困难无比，但是好在中国市场需求巨大，不断激励我们国家科技发展出成就来!

  综合来看，光刻机代表了一个国家在机械设计、工程设计、材料设计等方面造诣水平，它体现了一个国家对工业发展条件理解深度，实现出色程度也代表着本国实力，更彰显了岛国坚持独立自主干劲，以及国家实力和民众追求对工业发展的激励，想让他们继续创造奇迹!

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